В учебно-справочном руководстве проведен анализ возможностей, особенностей, ограничений и областей применения различных литографических и нелитографических методов наноструктурирования для создания топологии ИС с элементами субстонанометрового диапазона. Показаны основные физические и химические механизмы и ограничения, лежащие в основе оптической нанолитографии, нанолитографии на экстремальном ультрафиолете, наноимпринт литографии, электронной нанолитографии и вакуумного газоплазменного травления. Приведено современное производственное оборудование различных видов нанолитографии, его операционные и конструкционно-технологические параметры, технологические и экономические характеристики реализуемых процессов. Руководство для университетов с обучением по специальностям: 210601 Нанотехнология в электронике, 210104 Микроэлектроника и твердотельная электроника, 222900 Нанотехнология и микросистемная техника, 210600 Нанотехнология, 210100 Электронное машиностроение, а также для инженеров и научных работников.